电子工业气体所用气体分为单质气体(如氢、氧、氮„„),多元气体(硅烷,氨、氯化氢)和混合气体(硅烷和氢、磷烷和氮„„)。 气体纯度的含义是指除基本气体外,剩余结尾杂质。气体纯度的等级有多种,如普通纯、高纯和特纯(超纯)。 所谓电子纯是指具体的半导体器件应用而言的。 至于说普通纯、高纯和特纯气体是几个“9”,则与具体杂质含量多少有关。 气体纯度表示通常有两类。 对化学家来说,一般用99%,99.9%,99.99%,99.999%,99.9999%,99.99999%,99.999999%等纯度表示。 那么其余1%,0.1%,0.01%,0.001%,0.0001%,0.00001%,0.000001%为杂质。 那么气体本身的杂质有哪些?来源又是什么呢?
电子工业气体所用气体分为单质气体(如氢、氧、氮„„),多元气体(硅烷,氨、氯化氢)和混合气体(硅烷和氢、磷烷和氮„„)。
气体纯度的含义是指除基本气体外,剩余结尾杂质。气体纯度的等级有多种,如普通纯、高纯和特纯(超纯)。
所谓电子纯是指具体的半导体器件应用而言的。
至于说普通纯、高纯和特纯气体是几个“9”,则与具体杂质含量多少有关。
气体纯度表示通常有两类。
对化学家来说,一般用99%,99.9%,99.99%,99.999%,99.9999%,99.99999%,99.999999%等纯度表示。
那么其余1%,0.1%,0.01%,0.001%,0.0001%,0.00001%,0.000001%为杂质。
那么气体本身的杂质有哪些?来源又是什么呢?
常规杂质
H2, O2, N2, Ar, CO, CO2, CH4, H2O
原材料中的较难分离物质
特殊杂质
颗粒物
油份
金属离子
同位素物质污染
亚稳态物质污染
杂质来源
原料污染
原材料的杂质组分
生产工艺副产物
工艺失效污染
过程污染
环境带入:空气组分(O2, N2, Ar, CO2), 水分
生产装置,管路,充装装置带入:水分,金属元素,颗粒物,油份
生产工艺富集
包装污染
残气污染
包装本身带入污染:水分,金属元素,颗粒物
包装内壁处理不过关
分解聚合污染
充装过程污染
置换效率低
置换气体污染
真空度不够