半导体工艺气体纯化新科技

半导体器件变得越来越小，几何结构越来越复杂，使用的材料越来越多，给工艺气体的纯度带来了更大的挑战。

更多的工艺步骤意味着消耗更多的工艺气体。现在，即使气体供应中有微量污染物，也会对芯片性能产生不可忽略的影响。因此，工艺气体净化显的日益重要。目前主要存在六大种污染类型：

气体和化学品的纯度在先进半导体和存储设备的性能和可靠性方面发挥着重要作用。为了保持竞争力，许多半导体制造商提高了产量，从而增加了气体的总消耗量。因此，对污染物采取必要的净化措施势在必行。